王岸然将两大技术难点合盘而出，刘本清说道：“王总，你……？”
王岸然装着没看见，背过身，继续说道：“除了两大问题，在实际操作中，也会面临平台的稳定性，校准系统，曝光时间等问题，需要按每台机器的类型多次调试……”
刘本清想给王岸然竖个大拇指，说一声牛，这些资料可不怎么容易找到。
“王总，既然你知道浸没式光刻机的缺陷，还需要继续坚持吗？”
王岸然点点头，说道：“为什么不！刘教授，高纯水介质我们可以自己研发也可以跟外国合作，厌水光刻胶我们也可以这么办，当然，也可以考虑在光刻胶上再喷一道绝水薄膜，没有试过，怎么知道不行！”
“我们试过很多种办法！”
“那就再试，试到解决为止……”
王岸然毫不客气，作为投资人，他是来发布命令的，而不是跟你讨价还价。
浸没式光刻机肯定是未来的方向，而且波长越长，通过折射后，缩微的效果越明显。
况且，光刻机的波长并能完全决定芯片的制程，通过特定的曝光方式也可以提高制程。
事实证明，193纳米的紫光光源，也可以进行65纳米芯片工艺