末不能说的那一年，推出了4八6pu。采用的工艺是1微米线宽，在ppu中集成了100万个晶体管，成为其里程碑式的一款产品。
也就是说，美国人达到1微米工艺的时间，大概是1990年的前一年，刚刚实现而已。
但在民主德国的蔡司工厂里，相隔一年时间，竟然也实现了1.2微米的光刻机技术，这让从来没有听过这件事情的胡文海真是不敢置信。
实际上苏联人在半导体技术上最多只落后美国半个身位，之所以声名不显，只不过是苏联死的太早。
另外就是苏联的半导体技术主要应用在军事用途上，米格31和萨姆12，上面的电子系统都不弱于美军的同期装备水平。
但是在民用应用方面，苏联的体制问题就实在是太让人扼腕叹息了。
1.2微米工艺的光刻机，对焦分辨率达到500纳米。看过这款光刻机的技术资料之后，胡文海很有信心在此基础上，将其工艺进一步推进到0.八微米的亚微米级别。
这t能把intel吓一个跟头。
胡文海觉得这简直酷毙了，他迫不及待想要看到intel的e格罗夫那见了鬼的样子了。
“我需要蔡司厂的镜片设计全部资料，加工