后用物理方法去除蚀刻部分，留下来的就形成所需的元件。
整个过程就像照相，一个人通过光学镜头的处理，在底片上留下痕迹，通过化学药水分批清洗，就可以从底片上显露人的形象。
所以光刻机是决定集成电路尺寸的主要因素，它能给你曝光到多少量级，集成电路就能够做到多少尺寸。
光刻机的光源自然也是其最重要的核心部件。
目前硅谷晶圆厂使用的大都是投影式光刻机，采用汞灯作为光源，汞灯的缺点是光谱线太高，成本也高，而且投影式方式下光刻机镜头无法移动，在同等光源下，能够曝光的集成电路容量有限。
张恒为何要关注gca这家还不算太出名的小公司，因为这家公司在1978年研制出了史上第一台步进式光刻机，大大扩展了集成电路的容量。
通俗点说，投影式一次只能拍一张照，可以移动的步进式一次至少可以拍两张照甚至还要更多，得到的影像当然要大得多。
“既然gca暂时不同意入股，那价格上也就不需要太客气，你好好和他们砍吧。”张恒做了决定，gca他是志在必得，但是并不紧迫，随着晶圆厂的开工建设，相信会慢慢和对方建立起某种程度的信任，只要