体刻蚀的一种较轻微的情况。
进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分，工件送入被真空泵抽空的反应室，气体被导入并与等离子体进行交换，等离子体在工件表面发生反应，反应的挥发性副产物被真空泵抽走。
rdd离子激光仪实际上便是一种反应性等离子工艺，反应性激光体（rie），顺流激光体（ds），直接激光体（dp）。
感应激光体刻蚀法（edrt）是化学过程和物理过程共同作用的结果。
它的基本原理是在真空低气压下，ed 射频电源产生的射频输出到环形耦合线圈，以一定比例的混合刻蚀气体经耦合辉光放电，产生高密度的激光，在下电极的rt 射频作用下，这些等激光对基片表面进行轰击，基片图形区域的半导体材料的化学键被打断，与刻蚀气体生成挥发性物质，以气体形式脱离基片，从真空管路被抽走。
刘林看了看，把眉头都皱成一团，之前因为就大概的扫了两眼，没详细看，结于其难度可以说是很模糊，毕竟全部资料都是现成的，不需要设计，也不需要研发，跟着图纸制造出来就行了！
看来是自己想简单了！
刘林用手揉了揉，感觉发痛的太阳穴，